ECR-PECVD방법으로 중착된 탄탈릅 산화박막의 전기적 성질에 미치는 증착변수의 영향

조복원 ,  김종석 ,  김일 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

ECR-PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 증착시 형성되는 $SiO_2$에 관한 연구

안성덕 ,  김일 ,  김종석 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

ECR-PECVD 방법으로 제작된 a-C:H 박막의 결합구조에 관한 연구

손영호 ,  박형국 ,  정재인 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

상온에서 ECR PECVD에 의해 형성된 실리콘 산화질화막의 전기적 특성

이호영 ,  전유찬 ,  주승기

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

ECR-PECVD법으로 증착된 $Al_{2}O_3$ 절연 박막의 특성에 관한 연구

이재균 ,  전병혁 ,  이원종

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN박막의 특성 비교

전병혁 ,  김종석 ,  이응직 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

ECR PECVD에 의한 상온 실리콘 질화막 형성 및 박막 트랜지스터에의 응용 ( Room Temperature Fabrication of Silicon Nitride Films by ECR PECVD and its Application to Thin Film Transistors )

전유찬 ,  이호영 ,  주승기

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

ECR-PECVD 방법으로 증착한 Diamond-Like carbon 박막의 광 특성

김대년 ,  김기홍 ,  김혜동

한국안광학회지

2004 .11

RF-PECVD법과 ECR-PECVD법에 의해 증착된 TiN 박막의 물성에 관한 비교 연구

김종석 ,  전병혁 ,  이응직 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

ECR PECVD법을 이용한 PLZT박막 제조

신중식 ,  노광수 ,  천성순 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향

백용구 ,  박영진 ,  김종철 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

PECVD 법으로 형성된 $Ta_{2}O_{5}$ 유전박막의 전기적 특성에 미치는 급속 후속 열처리의 영향

한성욱 ,  이재석 ,  박종완 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

열처리 조건이 PECVD방식으로 증착된 Ta2O5 박막 특성에 미치는 영향 ( Effect of Annealing Conditions on Ta2O5 Thin Films Deposited By PECVD System )

백용구 ,  은용석 ,  박영진 외 2명

전자공학회논문지-A

1993 .08

ECR 산소 플라즈마를 이용한 저온 열산화 ( Low Temperature Thermal Oxidation using ECR Oxygen Plasma )

이정열 ,  강석원 ,  이진우 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .03

LPCVD, PECVD, ECR Plasma CVD를 이용한 SiN막질의 비교

이태호 ,  이규한 ,  이승윤 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

ECR PECVD법으로 제조한 고접적 메모리 소자 charge storage capacitor용 PLZT 박막의 전기적 특성

신중식 ,  정수옥 ,  천성순 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )

정윤권 ,  정문식 ,  강봉구

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구

정연학 ,  박재석 ,  이재신

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Effects of Deposition Parameters on Composition , Structure , Resistivity and Step Coverage of Tin Thin films Deposited by ECR-PECVD

김종석 ,  이응직 ,  이원종

대한전자공학회 학술대회

1996 .01