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저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제32권 제2호
발행연도
2019.1
수록면
134 - 140 (7page)

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마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 Oxide(SnO2)/metal alloy(Cu(Ni))/oxide(SnO2) 다층박막을 제작하였다. Oxide 층과 Metal 합금 층은 각각 SnO2, Ni이 도핑된 Cu가 해당된다. X-ray diffraction (XRD), ultraviolet visible (UV-vis) spectrophotometer and 4-point probe를 사용하여 다층박막의 구조적, 광학적, 전기적 성질을 조사한다. SnO2/Cu(Ni)/SnO2 다층박막의 성질은 필름 중간층의 두께와 Ni 도핑에 의존한다. Ni원자가 Cu 원자의 확산과 응집을 억제하기 때문에 Ni을 추가함으로서 Cu의 Grain growth를 지연시킬 수 있다. 250℃에서 SnO2(30nm)/Cu(Ni)(8nm)/SnO2(30nm) 다층 박막의 Haccke’s figure merit (FOM)는 0.17×10-3 Ω-1로 평가된다.

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