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정민욱 (성균관대학교) 김민국 (성균관대학교) 송우석 (성균관대학교) 정대성 (성균관대학교) 최원철 (한국과학기술연구원) 박종윤 (성균관대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제19권 제4호
발행연도
2010.7
수록면
307 - 313 (7page)

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본 연구에서는 열 화학기상증착법(thermal chemical vapor deposition)을 이용하여 분말 형태의 규소(Si)와 염화니켈 수화물 (NiCl₂ㆍ6H₂O)을 혼합한 후 탄소공급원인 CH4 가스를 주입하여 탄화규소 나노선(SiC nanowire)을 합성하였다. 합성 온도와 CH₄ 가스 유량 변화에 따른 탄화규소 나노선의 구조적 특성을 분석한 결과, 합성온도가 1,400℃, CH₄ 가스의 유량이 300 sccm인 경우가 탄화규소 나노선의 합성에 최적화된 조건임을 라만 분광법(Raman spectroscopy)과 X-선 회절(X-ray diffraction), 주사전자현미경(scanning electron microscopy), 그리고 투과전자현미경(transmission electron microscopy) 분석을 통해 확인하였다. 합성된 탄화규소 나노선의 직경은 약 50∼150 ㎚이며, 곧은 방향성과 높은 결정성을 가지는 입방구조(cubic structure)를 지니고 있었다.

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌

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