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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제15권 제4호
발행연도
2006.7
수록면
380 - 386 (7page)

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본 연구에서는 극자외선(Extreme Ultra Violet) 리소그래피의 빛샘원 발생을 위한 플라스마 집속장치 (Plasma Focus Device)를 설계, 제작하였으며, 이를 이용하여 단펄스 집속 플라스마의 전류, 전압 방전 특성 및 장비의 저항, 인덕턴스의 중요 기초 연구를 수행하였다. 전압, 전류는 C dot probe와 B dot probe를 이용하여 측정하였다. Anode 전극에 1.5, 2, 2.5, 3 ㎸의 전압을 인가하고 Diode chamber 내의 Ar 기체압력을 1 mTorr ~100 Torr 로 변화시켰을 때 발생되는 전압, 전류는 300 mTorr 에서 가장 큰 값을 보였으며, 이때 측정된 LC 공진에 의한 전류 파형으로부터 계산된 시스템 내의 인덕턴스와 임피던스값은 각각 73 nH, 35 mΩ 였다. 300 mTorr, 2.5 ㎸ 일 때 Emission spectroscopy를 이용하여 계산한 단펄스 집속 Ar 플라스마내의 전자온도는 Local Thermodynamic Equilibrium(LTE) 가정으로부터 T=13600 K 이었고 이온밀도 및 이온화율은 각각 Ni=8.25×10<SUP>15</SUP>/㏄, δ=77.8% 이었다.
#극자외선 #리소그래피 #플라스마집속 #EUV #lithography #Plasma focus

목차

한국어 초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험장비 및 작동원리
Ⅲ. 실험 결과
Ⅳ. 결론
Ⅴ. 감사의 글
참고문헌
영어 초록

참고문헌 (4)

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