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논문 기본 정보

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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제9권 제1호
발행연도
2000.2
수록면
30 - 35 (6page)

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상용 유리 기판 위에 rf-magnetron 스퍼터링을 이용하여 Indium-Tin Oxide(ITO) 박막을 증착시켰다. 기판의 온도는 300℃ 및 500℃, 산소 분압을 2, 3, 5%로하여 두께 2,000~2,400 Å이 되도록 증착시킨 ITO 박막의 특성을 Spectrophotometer, XRD, SEM, AFM 및 4-point probe, Hall effect 측정장치을 이용하여 분석하였다. 최적의 증착 조건은 기판 온도 500℃, 산소 분압 2~3%이었다. 이때 ITO 박막은 투과도 91%, 비저항 5.4×10^(-3)Ω㎝, 전하농도 l.0×10^(19) ㎝-³, 전하 이동도 150㎠/Vsec를 나타내었다. 또한 박막의 결정성은 (400) 및 (222) 방향이 주종을 이루었다. 기판을 사전 열처리 벚 화학 세척을 하지않고 단순히 초음파 세척만을 해 주었을 때, 투과도는 86%, 전하농도는 5.4×10^(19) ㎝-³, 전하이동도는 24 ㎠/Vsec인 ITO 박막을 얻을수 있었다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험

3. 실험 결과 및 고찰

4. 결론

참고문헌

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