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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제12권 제3호
발행연도
2003.9
수록면
182 - 192 (11page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2007

ZEP520 포토리지스트를 이용한 나노 패턴 형성을 위한 전자빔 리소그래피 공정 모델링 및 시뮬레이션
손명식 반도체및디스플레이장비학회지 2007.01 학술저널

2003

다층 리지스트 및 화합물 반도체 기판 구조에서의 전자 빔 리소그래피 공정을 위한 몬테 카를로 시뮬레이션 모델 개발
손명식 Applied Science and Convergence Technology 2003.09 학술저널

2002

다층 리지스트 다층 기판 구조에서의 전자빔 리소그래피 공정을 위한 몬테카를로 시뮬레이터의 개발
손명식 ,  이진구 ,  황호정 대한전자공학회 학술대회 2002.06 학술대회자료

초록· 키워드

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밀리미터파 대역용 고속 PHEMT 소자 제작 및 개발을 위하여 다층 리지스트 및 다원자 기판 구조에서 전자빔리소그래피 공정을 분석할 수 있는 새로운 몬테 카를로 시뮬레이션 모델을 개발하였다. 전자빔에 의해 다층 다원자 타겟 기판 구조에 전이되는 에너지를 정확하고 효율적으로 계산하기 위하여 다층 리지스트 및 다층 다원자 기판 구조에서 시뮬레이션 가능하도록 새로이 모델링하였다. 본 논문에서 제안 개발된 모델을 사용하여 PHEMT 소자의 전자빔 리소그래피에 의한 T-게이트 형성 공정을 시뮬레이션하고 SEM 측정 결과와 비교 분석하여 타당성을 검증하였다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 다원자 다층 기판 구조를 위한 몬테 카를로 시뮬레이션 모델

3. 시뮬레이션 결과 및 논의

4. 결론

감사의 글

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