Structural and Dielectric Properties of Pb[(Zr,Sn)Ti]NbO3 Thin Films Deposited by Radio Frequency Magnetron Sputtering

최우창

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자료유형: 학술저널

저자정보: 최우창

저널정보: 한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제11권 제4호

발행연도: 2010.1

수록면: 182 - 185 (4page)

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Pb0.99[(Zr0.6Sn0.4)0.9Ti0.1]0.98Nb0.02O3 (PNZST) thin films were deposited by radio frequency magnetron sputtering on a (La0.5Sr0.5)CoO3 (LSCO)/Pt/Ti/SiO2/Si substrate using a PNZST target with an excess PbO of 10 mole%. The thin films deposited at the substrate temperature of 500°C crystallized to a perovskite phase after rapid thermal annealing (RTA). The thin films, which annealed at 650°C for 10 seconds in air, exhibited good crystal structures and ferroelectric properties. The remanent polarization and coercive field of the fabricated PNZST capacitor were approximately 20 uC/cm2 and 50 kV/cm, respectively. The reduction of the polarization after 2.2 × 109 switching cycles was less than10%.

#Ferroelectric #PZT #Doping #Sputtering #Rapid thermal annealing

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D. X. Lu / 1997 / / IEEE Trans. Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 44 : 675 ~

D. X. Lu / 1997 / / Int. J. Electron. 83 : 805 ~

E. S. Ramakrishnan / 1992 / / J. Vac. Sci. Technol. A 10 : 69 ~

G. Arlt / 1989 / / Ferroelectrics 91 : 3 ~

H. M. Tsai / 1998 / / Appl. Phys. Lett. 72 : 1787 ~

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