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논문 기본 정보

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저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제9권 제2호
발행연도
2008.1
수록면
52 - 56 (5page)

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Carbon nanotube films were fabricated by the catalytic CVD method. Plasma processed time effects on the field emission property were studied. The atomic structure was observed by using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The surface composition changes were observed on the plasma processed CNT films. The O1s/C1s signal ratio and the F1s/C1s signal ratio changed from 1.1 % to 24.65 % and from 0 % to 3.1 % with plasma process time, respectively. We could guess it from these results that the Ar plasma process could change the surface composition effectively. In the case of the original-CNT film, no carbon shift was observed. In the case of the Ar plasma processed CNT films, however the oxygen related carbon shifts were observed. This oxygen related carbon shift at higher binding energy implies the increment of amount of the oxygen. It’s possible that the increment of these bonds between carbon and oxygen results in the improvement of field emission performance.
#XPS #Field Emission #Ar plasma #CNT

목차

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참고문헌 (11)

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J.M. Bonard / 1998 / Field emission properties of multiwalled carbon nanotubes / Ultramicroscopy 73 : 7 ~ google schola J.M. Bonard / 2001 / Field emission from carbon nanotubes: the first five. years / Solid State Electron 45 : 893 ~ google schola K.A. Dean / 2002 / Carbon nanotube field emission electron sources / New Diamond Front. Carbon Technol 12 (4) : 165 ~ google schola R.H. Fowler / 1928 / Electron emission in intense electric fields / Proc. R. Soc. London Ser A119 : 173 ~ google schola R.M.D. Stevens / 2000 / Carbon nanotubes as probes for atomic force microscopy / 2000 IOP Publishing ltd. google schola

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