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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제8권 제2호
발행연도
2007.1
수록면
58 - 66 (9page)

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In this paper, the process effect on the RMS roughness of the HfO2 thin films grown by metal organic molecular beam epitaxy was investigated. The measured RMS roughness is examined to characterize the surface morphology. In order to analyze the factor effects, the significant factors of both the main and the interaction effects were extracted through the effect analysis. In order to compare the regression model with the variable transformation, the effect of each factor and the model efficiency are calculated. The methodology can allow us to analyze the effects between the process parameters related to the process variability.
#HfO2 #RMS roughness #Process effect #Factorial design #Regression model #Power transformation

목차

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/ 1989. / An efficient methodology for building macromodels of IC fabrication processes 8 : 1299 ~ google schola / 1995. / Response Surface Methodology google schola / 1997. / Design and Analysis of Experiments google schola / 2003. / Estimating corrosion: a statistical approach 24 : 509 ~ google schola / 2004. / Design of experiment considering two-way interactions and its application to injection molding processes with numerical analysis 146 : 221 ~ google schola

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