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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제22권 제12호
발행연도
2009.1
수록면
1,095 - 1,099 (5page)

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As a substitute material for silicon, we synthesized few layer graphene (FLG) by CVD process with a 300-nm-thick nickel film deposited on the silicon substrate and found out the lowest temperature for graphene synthesis. Raman spectroscopy study showed that the D peak (wave length : ∼1,350 cm-1) of graphene was minimized and then the 2D one (wave length : ∼2,700 cm-1) appeared when rapid thermal anneal is carried out with the C2H2 treated nickel film. This study demonstrates that a high quality FLG formed at a low temperature of 400℃ is applicable as CMOS devices and transparent electrode materials.
#Graphene #CVD #RTA #C2H2 #Raman spectroscopy

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A. K. Geim / 2007 / The rise of graphene / Nature Materials 6 (3) : 183 ~ google schola A. K. Geim / 2008 / Carbon wonderland / Scientific American 208 (4) : 90 ~ google schola K. I. Bolotin / 2008 / Ultrahigh electron mobility in suspended graphene / Solid State Commun 146 (9-10) : 351 ~ google schola K. S. Kim / 2009 / Large-scale pattern growth of graphene films for stretchable transparent electrodes / Nature 457 (7230) : 706 ~ google schola K. S. Novoselov / 2004 / Electric field effect in atomically thin carbon films / Science 306 (5696) : 666 ~ google schola

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