지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.1
- 수록면
- 0 - 0 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
Influence of post gate oxidation anneal on Negative Bias Temperature Instability (NBTI) of PMOSFET has been investigated. At oxidation anneal temperatures raised above 950 oC, a significant improvement of NBTI was observed which enables to reduce PMOS Vth shift occurred during a Bias Temperature (BT) stress. The high temperature anneal appears to suppress charge generations inside the gate oxide and near the silicon-oxide interface during the BT stress. By measuring band-to-band tunneling currents and subthreshold slopes, reduction of oxide trapped charges and interface states at the high temperature oxidation anneal was confirmed.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
A Study on Negative Bias Temperature Instability in ELA Based Low-Temperature polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2007 .01
-
NBTI 조건에서 양자 효과가 고려된 Si-SiO₂ 계면 트랩 형성모델을 사용한 pMOSFET 소자 열화 시뮬레이션
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
-
Reliability Characteristics by the NBTI stress in Ultra-thin Gate p-MOSFET
INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUTURE INFORMATION & COMMUNICATION ENGINEERING
2009 .06
-
NBTI 노화 효과를 고려한 헤더 기반의 파워게이팅 구조
전자공학회논문지-SD
2012 .02
-
Identification of Interface States and Shallow and Deep Hole Traps under NBTI Stress using Fast, Normal, and Charge-pumping Measurement Techniques
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2018 .04
-
NBTI 조건에서 양자 효과가 고려된 Si-SiO₂ 계면 트랩 형성모델을 사용한 pMOSFET 소자 열화 시뮬레이션
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
-
Decoupled Plasma Nitridation 공정 적용을 통한Negative Bias Temperature Instability 특성 개선
전기전자재료학회논문지
2005 .01
-
Illumination Assisted Negative Bias Temperature Instability Degradation in Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
-
초기 미세조직에 따른 NbTi 초전도 선재의 임계전류밀도 분석
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2019 .10
-
고속용 p-MOS 트랜지스터에서 NBTI 스트레스에 의한 특성 인자의 열화 분석
한국통신학회논문지
2010 .01
-
Hot Carrier와 NBTI에 따른 나노 스케일 초박막 SOI pMOSFET 소자의 신뢰도에 관한 연구
한국통신학회논문지
2009 .12
-
고자장 MRI 마그네트를 위한 NbTi 초전도 접합 공정 연구
한국초전도저온공학회 학술대회
2002 .01
-
A Power Grid Optimization Algorithm Considering Timing Degradation by NBTI
대한전자공학회 ISOCC
2011 .11
-
NbTi 초전도 접합 조건 변화에 따른 임계전류 특성 향상 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
-
RF Sputtering법에 의한 NbTi박막 제조연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .11
-
고속용 p-MOSFET에서 NBTI 스트레스에 의한 GIDL 전류의 특성 분석
한국정보통신학회논문지
2009 .02
-
Nano-scale PMOSFET에서 Plasma Nitrided Oixde에 대한 소자 특성의 의존성
전기전자재료학회논문지
2007 .01
-
Cu-Nb-NbTi로 결합된 이종소재의 인발가공 특성 연구
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2016 .10
-
NbTi 관내 3연선 도체의 안정성
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .07
-
Cu-Nb-NbTi로 결합된 이종소재의 다이스 설계에 따른 인발가공 특성 연구
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2017 .05
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0