메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제17권 제8호
발행연도
2004.1
수록면
852 - 858 (7page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색

초록· 키워드

오류제보하기
An alkoxide-based sol-gel method was used to fabricate Ba0.6Sr0.4TiO3 thin films doped by Bi from 5 to 20 mol% on a Pt/Ti/SiO2/Si substrate. The structural and dielectric properties of BST thin films were investigated as a function of Bi dopant concentration. The dielectric properties of the Bi doped BST films were strongly dependent on the Bi contents. The dielectric constant and dielectric loss of the films decreased with increasing Bi content. However, the leakage current density of the 10 mol% Bi doped Ba0.6Sr0.4TiO3 thin film showed the lowest value of 5.13 × 10-7 A/cm2 at 5 V. The figure of merit (FOM) reached a maximum value of 32.42 at a 10 mol% Bi doped Ba0.6Sr0.4TiO3 thin films. The dielectric constant, loss factor, and tunability of the 10 mol% Bi doped Ba0.6Sr0.4TiO3 thin films were 333, 0.0095, and 31.1%, respectively.

목차

등록된 정보가 없습니다.

참고문헌 (17)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0