EFFECT OF Ti$O_2$ LAYER AT BST/pt INTERFACE

Paek, S.H.; Won, J.H.; Jang, J.E.

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자료유형: 학술저널

저자정보: Paek, S.H. (Dept. of Materials Engineering, College of Engineering, Hanyang Univ.) Won, J.H. (Dept. of Materials Engineering, College of Engineering, Hanyang Univ.) Jang, J.E. (Dept. of Materials Engineering, College of Engineering, Hanyang Univ.)

저널정보: 한국재료학회 Fabrication and Characterization of Advanced Materials Fabrication and Characterization of Advanced Materials 제2권 제3호

발행연도: 1995.1

수록면: 1,051 - 1,056 (6page)

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Improvement of electric property of degraded(Ba, Sr)$TiO_3$ thin film due to $TiO_2$layer has been investigated. SBT thin film was deposited on Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrate by RF magnerton sputter suing insitu process. Undersirable layer with low dielectric constant, $TiO_2$, at BST/Pt interface was confirmed by AES depth profile, XRD. Electric properties of BST thin film were improved by removing $TiO_2$ layer. Excess BaO and SeO were added to BST target for supplement of deficient Ba, Sr content in BST thin film. As the (Ba+Sr)/Ti ratio variation, the $TiO_2$ layer was removed and the dielectrci property of BST thin film was improved. At (Ba+Sr)/Ti=1.05, dielectric constant showed its highst value of 510. The leakage current of BST was almost independent of the existence of $TiO_2$ layer.

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