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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.1
- 수록면
- 53 - 59 (7page)
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PCB 표면 개질 및 세정에 있어서 저압 수은 램프를 이용한 UV 장비가 널리 사용되어왔다. 본 연구에서는
공정의 생산성을 향상 시키기 위하여 기존 UV 장비를 대체하여 리모트 DBD 방식의 대기압 플라즈마 장비를 새로이 개
발하였다. 두 장비의 생산성 비교는 처리 시간 증가에 따른 표면 접촉각의 변화를 측정함으로써 정량적으로 비교할 수 있
었다. 측정 결과 대기압 플라즈마 장비의 생산성이 UV 장비에 비하여 매우 우수한 것으로 확인 되었다. 또한 XPS를 이
용한 표면 조성 측정 결과 동일한 접촉각 수준에서 UV 및 대기압 처리의 효과는 유사한 것으로 파악되었다. 즉, 유기 오
염 수준이 감소되었으며 표면 일부 표면 원소가 산회되었다. 최종적으로 대기압 플라즈마를 BGA 제조의 플럭스 도포 공
정에 적용하였는데, 대기압 플라즈마를 처리함으로써 도포 공정의 균일도가 향상되는 결과를 얻을 수 있었다.
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A. Schutz / 1998 / The Atmospheric-Pressure Plasma Jet: A Review and Comparison to Other Plasma Sources / IEEE Trans. On Plasma Science 26 (6)
D. S. Son / 1997 / A Study of Dry Cleaning for Metallic Contamination on a Silicon Wafer Using UV-Excited Chlorine Radical / Journal of the Korean Vacuum Society 6 (1) : 9 ~
S. H. Moon / 2005 / Application of Ultra-Violet Cleaning Technology / Journal of the Korean Institute of Illumination and Electrical Installation Engineering 19 (5) : 7 ~ 13
S. Lou / 2001 / Effect of UV/Ozone Treatment on Surface Tension and Adhesion in Electronic Packaging / IEEE Trans. Comp. Packaging Technol. 24 : 43 ~ 49
S. Lou / 2003 / Surface Property of Passivation Layer on Integrated Circuit Chip and Solder Mask Layer on Printed Circuit Board / IEEE Transactions on Electronics Packaging M
D. S. Son / 1997 / A Study of Dry Cleaning for Metallic Contamination on a Silicon Wafer Using UV-Excited Chlorine Radical / Journal of the Korean Vacuum Society 6 (1) : 9 ~
S. H. Moon / 2005 / Application of Ultra-Violet Cleaning Technology / Journal of the Korean Institute of Illumination and Electrical Installation Engineering 19 (5) : 7 ~ 13
S. Lou / 2001 / Effect of UV/Ozone Treatment on Surface Tension and Adhesion in Electronic Packaging / IEEE Trans. Comp. Packaging Technol. 24 : 43 ~ 49
S. Lou / 2003 / Surface Property of Passivation Layer on Integrated Circuit Chip and Solder Mask Layer on Printed Circuit Board / IEEE Transactions on Electronics Packaging M
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