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논문 기본 정보

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저널정보
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 한국결정성장학회지 제16권 제3호
발행연도
2006.1
수록면
25 - 31 (7page)

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반도체 드라이 에처 시스템의 웨이퍼 정전기 척에 적용하기 위해 플라즈마 스프레이 방법으로 Al-60 계열 기판에 코팅한 Al2O3 코팅 막의 특성을 조사하였다. 시편 뒷면에 냉각봉이 장착되었을 때와 없을 때, 용사거리와 분말공급량을 변형하면서 Al2O3 막 코팅을 하여 시편을 제작 하였다. 시편 뒷면에 냉각봉이 없을 때는 크랙과 기공이 많이 발생하였다. 시편 뒷면에 냉각봉을 장착하고 분말공급량을 15 g/min로 한 경우에 용사거리 60, 70, 80 mm에 따른 Al2O3 코팅에서는 크랙과 기공은 거의 찾아볼 수 없었다. 용사거리 변화에 따른 Al2O3 막 코팅의 표면형태 변화는 없었다. 같은 공정조건에서 분말 공급량을 20 g/min로 한 경우에도 크랙은 볼 수 없었으나 약간의 기공이 생겼고, 분말공급량을15 g/min로 하였을 때 보다 작은 입자들이 많이 증착되었다. 시편 뒷면에 냉각봉이 없을 때가 시편 뒷면에 냉각봉이 장착된 경우에 비하여 증착속도가 빨랐다.
#Plasma spray #Al2O3 #Electro-static chuck #PECVD #Dryetch

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/ 1970 / Effect of some parameters on microstructure and hardness alumina coatings prepared by the air plasma spraying process? 53 (9) : 490 ~ google schola / 1973 / lectrostatic wafer chuck for electron beam microfabrication? Review of Science Instruments 44 : 1506 ~ google schola / 1983 / eneralities on the physical and chemical processes in the a thermal plasma? 23 (2) : 238 ~ google schola / 1994 / ?lasma jet behavior and modeling associated with the plasma spray process? Thin Solid Films 238 : 228 ~ google schola / 1997 / Expert system for process optimization of atmospheric plasma spraying of high performance ceramics? 63 google schola

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