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C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각의 SiO2 두께 변화 해석 모델
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
C4F8 가스를 이용한 식각 공정 플라즈마에서 첨가 가스(Ar, Kr)에 따른 플라즈마 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Ar/NF3 혼합가스 Remote plasma source에서의 플라즈마 밀도 측정 및 Si/SiO₂ 식각률 측정
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
유도결합형 산소 플라즈마를 이용한 다공성 폴리머 필름의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
PECVD 공정을 통한 ACL 증착 중 발생 입자의 특성변화 관찰
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
OF₂/NH₃ 리모트 플라즈마를 이용한 실리콘 산화물 식각 공정
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
플라즈마 활성종 측정을 통한 낮은 지구 온난화 지수를 가진 precursor의 SiO2 식각 특성 진단
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
A Study on the improvement of supercapacitor characteristics use to SiO₂ coated Hybrid Graphene Nanoplatelets
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Variation of reflectivity and colour in SnO₂/Ag/SnO₂ structure with Nb₂O5 and SiO₂ index matching layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
식각 공정을 위한 C₄F8/O2/Ar및 C₄F8/O2/Kr플라즈마의 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Development of Low Damage Dry Etch to Pattern Sub-10 nm with ACL and High-χ BCP mask
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
NF3 플라즈마 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Dopant에 따른 amorphous carbon layer의 etch rate 변화 분석연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
축전 결합형 C₄F₈/Ar 플라즈마 내에서 웨이퍼 두께에 따른 쉬스 렌즈 효과 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
발광 분광 분석법 및 잔류가스 분석기를 이용한 NF₃ 플라즈마 반응성 이온 식각 장치의 실리콘 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
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