지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2016.8
- 수록면
- 474 - 474 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
-
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
-
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
-
Selective etching of SiO2 using embedded RF pulsing in a dual-frequency capacitively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
펄스 플라즈마를 이용한 나노구조체의 식각 특성 향상을 위한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
-
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
-
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
플라즈마 활성종 측정을 통한 낮은 지구 온난화 지수를 가진 precursor의 SiO2 식각 특성 진단
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
Plasma etching of gallium nitride at high temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
Atomic layer etching of SiO₂ with low-global warming potential C₄H₃F₇O isomers
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2017-420-001313449