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Lithography is widely recognized as one of the key steps in the manufacture of ICs and other devices and/or structures. However, as the dimensions of features made using lithography become smaller, lithography is becoming a more critical factor for enabling miniature IC or other devices and/or structures to be manufactured. As explained above, to make it happen, many other important technologies will have to be addressed. The vacuum technology is one of them and the engineers and experts are paying attention on vacuum technology including vacuum pumps. Especially high Vacuum(HV) and Ultra high vacuum(UHV) are not easy and not simple one. So the manpower who can understand vacuum technology with long experience in vacuum industry is important with basic study.
목차
EUV 리소그라피 장치를 위한 진공
오염이 EUV 리소그라피에 미치는 영향
잔류가스분석기를 이용한 EUV 리소그라피 내부의 탈가스 측정 [3]
오염물질 감지 방법
탄소 증착이 다중 층 거울의 수명에 미치는 영향 [15]
배기 과정 중 수증기 응결이 유발하는 입자 오염
정리
References
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