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In this paper, the organic material Poly(methyl methacrylate) PMMA is used with inorganic Al₂O₃ to fabricate organic-inorganic multilayer barrier thin films. The organic thin films are developed using a roll-to-roll electrohydrodynamic atomization system, whereas the inorganic are grown using a roll-to-roll low-temperature atmospheric pressure atomic layer deposition system. For the first time, these two technologies are used together to develop organic-inorganic multilayer barrier thin films in atmospheric condition. The films are grown under optimized parameters and classified into three classes based on the layer structures, when the total thickness of the barrier is maintained at ~ 160 nm. All classes of barriers show good morphological, optical and chemical properties. The Al₂O₃ films with a low average arithmetic roughness of 1.58 nm conceal the non-uniformity and irregularities in PMMA thin films with a roughness of 5.20 nm. All classes of barriers show a notably good optical transmission of ~ 85 %. The hybrid organic-inorganic barriers show water vapor and oxygen permeation in the range of ~ 3.2 × 10<SUP>-2</SUP>g/㎡/day and 0.015cc/㎡/day at 23℃ and 100% relative humidity. It has been confirmed that it can be mass-produced and used as a low-cost barrier thin film in various printing electronic devices.
목차
ABSTRACT
1. 서론
2. 실험
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
REFERENCES
참고문헌 (12)
참고문헌 신청
[단행본] - Martin, P. M. / 2009 / Handbook of deposition technologies for films and coatings: science, applications and technology / Elsevier : 135 ~ 139
[학술지(정기간행물)] - Dameron, A. A. / 2008 / Gas Diffusion Barriers on Polymers Using Multilayers Fabricated by Al2O3 and Rapid SiO2 Atomic Layer Deposition / The Journal of Physical Chemistry C 112 (12) : 4573 ~ 4580
[학술지(정기간행물)] - Puurunen, R. L. / 2014 / A short history of atomic layer deposition: Tuomo Suntola's atomic layer epitaxy / Chemical Vapor Deposition 20 (10-12) : 332 ~ 344
[학술지(정기간행물)] - Munoz-Rojas, D. / 2017 / Spatial Atomic Layer Deposition (SALD), an emerging tool for energy materials. Application to new-generation photovoltaic devices and transparent conductive materials / Comptes Rendus Physique 18 (7-8) : 391 ~ 400
[학술지(정기간행물)] - 이정수 / 2017 / 데스크탑 규모의 간결한 롤투롤 나노임프린팅 기반 나노패턴 연속가공 시스템 개발 / 한국기계가공학회지 16 (1) : 96 ~ 101
[학술지(정기간행물)] - Dameron, A. A. / 2008 / Gas Diffusion Barriers on Polymers Using Multilayers Fabricated by Al2O3 and Rapid SiO2 Atomic Layer Deposition / The Journal of Physical Chemistry C 112 (12) : 4573 ~ 4580
[학술지(정기간행물)] - Puurunen, R. L. / 2014 / A short history of atomic layer deposition: Tuomo Suntola's atomic layer epitaxy / Chemical Vapor Deposition 20 (10-12) : 332 ~ 344
[학술지(정기간행물)] - Munoz-Rojas, D. / 2017 / Spatial Atomic Layer Deposition (SALD), an emerging tool for energy materials. Application to new-generation photovoltaic devices and transparent conductive materials / Comptes Rendus Physique 18 (7-8) : 391 ~ 400
[학술지(정기간행물)] - 이정수 / 2017 / 데스크탑 규모의 간결한 롤투롤 나노임프린팅 기반 나노패턴 연속가공 시스템 개발 / 한국기계가공학회지 16 (1) : 96 ~ 101
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