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한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제8권 제4호
발행연도
2007.8
수록면
726 - 732 (7page)

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ALD (atomic layer deposition)법을 이용하여 두께를 달리한 10~50 ㎚-TiO₂-x/quanz 구소의 UV 기능성 박막을 형성시켰다. 박막의 두께는 우선 10 ㎚-TiO₂-x를 성막한 후 엘립소미터로 두께를 확인하였고 나머지 두께는 증착시간을 선형적으로 조절하여 완성하였다. TiO₂ 박막 두께에 따른 생성상과 파장대별 흡수도， 가시광선의 투과율을 각각 X선 회절기， UV-VIS-IR 분석기， 접사용 디지털 카메라를 써서 확인하였다. ALD 법으로 제조된 TiO₂-x는 벌크 TiO₂에 비해 비정질 (amorphous)이면서 비정량적인 TiO₂-x 형태임을 확인하였다. 380 ㎚와 415 ㎚의 흡수단을 보여 3.0-3.2 eV의 밴드갭을 가지는 기존의 벌크 TiO₂와는 달리， 제작된 TiO₂-x 박막은 197 ㎚와 250 ㎚의 부근에서 흡수단을 보이는 특징이 있었다. 따라서 장파장대의 자외선을 차단하는 기능을 가진 기존의 벌크 TiO₂와는 달리 ALD로 제작된 나노급 ，TiO₂는 단파장대의 자외선을 흡수할 수 있는 기능성이 있었고， 아울러 가시광선대에서 우수한 투과도를 보였다. 새로이 제안된 ALD를 이용한 나노급 ，TiO₂-x 박막은 가시광선의 투과도는 향상시키면서 단파장대의 자외선을 효과적으로 흡수하는 기능성을 가졌음을 확인하였다.
#ALD #TiO₂ #ultra violet #reflcetance #nano-thick TiO₂-x

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1. [학술지(정기간행물)] - D. H. Kim / 1996 / / J. Electrochem. Soc 143 : 188 ~ google schola 2. [학술대회논문] - J. T. Hillman / 1992 / / VMIC Conference : 246 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - S. H. Kim / 1999 / / J. Electrochem. Soc 146 : 1455 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - J. B. Kim / 2002 / / Kor. J. Mat. Res 12 : 6 ~ google schola 5. [기타자료] - Alexander E. Braun / 2001 / Semiconductor International google schola

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