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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김진영 (광운대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제49권 제5호
발행연도
2016.10
수록면
467 - 471 (5page)

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In order to investigate the Na gettering, PSG/SiO₂/Al-1%Si multilevel thin films were fabricated. DC magnetron sputter techniques and APCVD (atmosphere pressure chemical vapor deposition) were utilized for the deposition of Al-1%Si thin films and PSG/SiO₂ passivations, respectively. Heat treatment was carried out at 300℃ for 5 h in air. SIMS (secondary ion mass spectrometry) depth profiling and XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) analysis were used to determine the distribution and binding energies of Na, Al, Si, O, P and other elements throughout the PSG/SiO₂/Al-1%Si multilevel thin films. Na peaks were mainly observed at the the PSG/SiO₂ interface and at the SiO₂/Al-1%Si interfaces. Na impurity gettering in PSG/SiO₂/Al-1%Si multilevel thin films is considered to be caused by a segregation type of gettering. The chemical state of Si and O elements in PSG passivation appears to be SiO₂.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (11)

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