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Contact Resistance Reduction between Ni–InGaAs and n-InGaAs via Rapid Thermal Annealing in Hydrogen Atmosphere
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2017 .04
n-InGaAs MOSFETs을 위한 Pd 중간층을 이용한 Ni-InGaAs의 열 안정성 개선
전기전자재료학회논문지
2018 .03
Reduction of Contact Resistance Between Ni-InGaAs Alloy and In0.53Ga0.47As Using Te Interlayer
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2017 .10
InGaAs 나노박막의 열전도도 측정
대한기계학회 춘추학술대회
2015 .04
Investigation of microstructural and electrical properties of self-aligned Ni-InGaAs alloy contacts to InGaAs as a function of rapid thermal annealing temperature
Journal of Ceramic Processing Research
2020 .01
이온 빔을 이용한 Chrome 원자층 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2019 .05
LNA 설계를 통한 InGaAs FinFET RF특성 분석
대한전자공학회 학술대회
2016 .06
Optimization of Plasma Atomic Layer Etch Process for Silicon Carbide
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2018 .10
Generation and Applications of Radicals and Ions with Plasmas in Etching Processes of Semiconductor Device Fabrication
대한기계학회 춘추학술대회
2022 .11
이온빔을 이용한 Black Phosphorus 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .11
GaN epitaxy 층의 식각특성에 미치는 공정변수의 영향
한국결정성장학회지
2016 .01
동종 접합 InGaAs 수직형 Fin TFET의 온도 의존 DC 특성에 대한 연구
센서학회지
2020 .01
Cl₂/Ar gas mixture 중성빔을 이용한 블록공중합체 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
Chlorine-based high density plasma etching of α-Ga2O3 epitaxy layer
Electronic Materials Letters
2021 .01
Reducing Contact Resistance Between Ni-InGaAs and n-In0.53Ga0.47As using Sn Interlayer in n-In0.53Ga0.47As MOSFETs
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2018 .06
이황화 몰리브덴 박막의 반응성 이온 에칭에서 반응 속도 및 결정 의존성
대한전기학회 학술대회 논문집
2021 .10
바이오 센서 적용을 위한 수직형 이중게이트 InGaAs TFET의 게이트 열화 현상 분석
센서학회지
2022 .01
할로겐 가스 기반의 반응성 이온 식각을 이용한 PRAM 재료 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .11
Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching for 3-D Nano-Patterning Processes
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .11
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