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이용수
Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. DEVICE FABRICATION
Ⅲ. RESULTS AND DISCUSSION
Ⅳ. CONCLUSION
REFERENCES
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Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Laser CVD SiO2 막의 절연파괴특성 ( Breakdown Characteristics of Laser CVD SiO2 Films )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
Laser CVD SiO₂ 막의 절연파괴특성
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
N₂O 가스에서 열산화한 SiO₂막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
슬젤법에 의해 제작된 SiO₂ 박막 특성 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .11
Impact Ionization에 의한 박막 SiO2의 항복 특성 ( The Breakdown of Thin SiO2 by Impact Ionization )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
SIMS를 이용한 SiO₂/PSG/SiO₂/Al-1%Si 및 SiO₂/TEOS/SiO₂/Al-1%Si 적층 박막내의 Na 게터링 분석
한국표면공학회지
2018 .04
Passivations of High-Voltage Planar Devices Using SiO2-Si3N4-SiO2 Film
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
솔젤법에 의해 제작된 SiO₂ 박막의 물성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2004 .11
Si-SiO₂系의 問題点과 研究動向
전기의세계
1985 .06
아주 얇은 SiO2 막의 전도기구에 관한 일 고찰 ( The Study on Conduction Mechanism in the Ultrathin SiO2 film )
대한전자공학회 학술대회
1987 .05
NMS의 동향 및 효율적인 망관리를 위한 NMS 적용 사례 분석
한국통신학회 학술대회논문집
2003 .11
SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )
전자공학회논문지
1988 .11
Growth and Analysis of Intermediate SiO2 for the CeO2 / SiO2 Structure
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
CaO/SiO₂, SiO₂/Al₂O₃, Fe₂O₃/SiO₂ 비 변화에 따른 소각전처리 없는 건조슬러지의 용융특성 및 냉각조건 변화에 따른 슬래그특성
대한환경공학회 학술발표논문집
2008 .12
Electrical Characteristics of Thin SiO₂ Layer
KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
2003 .04
RF 스퍼터링을 이용한 SiO2 / Ta2O5 , SiO2 / ZrO2 박막의 무반사 특성 ( Anti-Reflection Characteristic of SiO2 / Ta205 , SiO2 / ZrO2 Film using the RF Sputter )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
Dielectric oxide thin film의 electrical breakdown mechanism 에 대한 비교 연구 ( Comparative study of mechanisms of electrical breakdown in oxide thin films )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
PLASMA ASSISTED DEPOSITION OF $SiO_2$ FILMS
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
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