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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2015.9
- 수록면
- 875 - 880 (6page)
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Traditional semiconductor process control has been performed through statistical process control techniques in a constant process-recipe conditions. However, the complexity of the interior of the etching apparatus plasma physics, quantitative modeling of process conditions due to the many difficult features constraints apply simple SISO control scheme. The introduction of the Advanced Process Control (APC) as a way to overcome the limits has been using the APC process control methodology run-to-run, wafer-to-wafer, or the yield of the semiconductor manufacturing process to the real-time process control, performance, it is possible to improve production. In addition, it is possible to establish a hierarchical structure of the process control made by the process control unit and associated algorithms and etching apparatus, the process unit, the overall process. In this study, the research focused on the methodology and monitoring improvements in performance needed to consider the process management of future developments in the semiconductor manufacturing process in accordance with the age of the APC analysis in real applications of the semiconductor manufacturing process and process fault diagnosis and control techniques in progress.
목차
Abstract
I. 서론
II. 반도체 제조공정 개요
III. 고급 공정 제어 시스템
IV. 이상 감지 및 분류 기법
V. 공정 데이터 분석을 통한 검증
VI. 결론
REFERENCES
참고문헌 (10)
참고문헌 신청
[학술대회논문] - D. Ha / 2015 / Analysis of APC case study and enhancement in monitoring performance in semiconductor manufacturing process / 2015 30th ICROS Annual Conference (ICROS2015)
[학술지(정기간행물)] - J. H. Lee / 2014 / Progress and challenges in control of chemical processes / Annual Review of Chemical and Biomolecular Engineering 5 : 383 ~ 404
[학술대회논문] - G. W. Rubloff / 2003 / In-situ metrology: the path to real-time advanced process control / Characterization and Metrology for ULSI Technology: 2003 International Conference : 583 ~ 591
[학술지(정기간행물)] - S. J. Qin / 2002 / A survey of industrial model predictive control technology / Control Engineering Practice 11 : 733 ~ 764
[학술대회논문] - M. Kano / 2009 / The state of the art in advanced chemical process control in Japan / 7th IFAC International Symposium on Advanced Control of Chemical Process
[학술지(정기간행물)] - J. H. Lee / 2014 / Progress and challenges in control of chemical processes / Annual Review of Chemical and Biomolecular Engineering 5 : 383 ~ 404
[학술대회논문] - G. W. Rubloff / 2003 / In-situ metrology: the path to real-time advanced process control / Characterization and Metrology for ULSI Technology: 2003 International Conference : 583 ~ 591
[학술지(정기간행물)] - S. J. Qin / 2002 / A survey of industrial model predictive control technology / Control Engineering Practice 11 : 733 ~ 764
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