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이용수
Abstract
1. 서론
2. a-Si:H 박막 물성
3. a-Si:H 박막의 형성과 측정
4. 실험및 검토
5. 결론
참고문헌
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대한전자공학회 학술대회
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전자공학회논문지-A
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한국표면공학회지
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전기전자재료학회논문지
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반도체및디스플레이장비학회지
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대한전기학회 학술대회 논문집
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극저온(150℃)에서 ICP-CVD로 증착한 Nanocrystalline-Si 박막
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