Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )

정윤권 ,  정문식 ,  강봉구

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구

정연학 ,  박재석 ,  이재신

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질

홍성의 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN박막의 특성 비교

전병혁 ,  김종석 ,  이응직 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착

허창우

한국정보통신학회논문지

2007 .11

PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착

김상호 ,  김동원

한국표면공학회지

2002 .04

PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구

한준희 ,  진억용

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

PECVD에 의한 μc-Si : H 박막트랜지스터의 제조 ( Fabrication of μc-Si : H TFTs by PECVD )

문교호 ,  이재곤 ,  최시영

전자공학회논문지-A

1996 .05

Optical Properties of Si nanocrystalline using PECVD

Hyeon Hun Yang ,  Han Wool Kim ,  Chang Gwon Lee 외 5명

대한전기학회 학술대회 논문집

2011 .11

PECVD법에 의한 나노클러스터의 형성 및 메카니즘

윤용섭

한국마린엔지니어링학회 학술대회 논문집

2012 .10

PECVD산화막을 이용한 삼층금속배선공정에 관한 연구 ( The Study on the Triple-Level metallization process Using PECVD Oxide )

백종태 ,  허성익 ,  박영준 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .07

PECVD를 이용한 Si₃N₄ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용

신재완 ,  이복형 ,  이성대 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

RF-PECVD법과 ECR-PECVD법에 의해 증착된 TiN 박막의 물성에 관한 비교 연구

김종석 ,  전병혁 ,  이응직 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

PECVD를 이용한 MoS₂ 원자층 합성

김형우 ,  안치성 ,  Gi 외 4명

대한기계학회 춘추학술대회

2013 .05

PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )

김진홍 ,  남철우 ,  우성일 외 1명

전자공학회논문지

1990 .07

PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )

김진홍 ,  남철우 ,  우성일 외 1명

전자공학회논문지

1990 .06

The Development of Three-Dimensional Scale Model UAV Simulator

Fumiaki Imado ,  Shinya Abe ,  Takuya Kinoshita

제어로봇시스템학회 국제학술대회 논문집

2006 .10

플라즈마 증착 형상 모의 실험기의 앞덮개 효과를 고려한 근사 해석적 모델에 관한 연구 ( A Study on the Approximation analytical Model of PECVD Topography simulator considering the effect of the presheath )

이강환 ,  손명식 ,  황호정

전자공학회논문지-D

1999 .01

PECVD를 이용한 SiO2 / Si3N4 박막의 특성 고찰 ( Characteristics of SiO2 / Si3N4 Films Using the PECVD Method Under Various Conditions )

김우진 ,  임우택 ,  김재영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

PECVD 실리콘질화막에 대한 이온빔 방사효과

이상환 ,  이중환 ,  서경수 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01