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Laser CVD에 의한 SiO2막의 형성과 제특성
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
실리콘窒化膜의 氣相成長과 그 電氣的 特性
전기의세계
1979 .09
레이저를 이용한 실리콘카바이드 화학증착에 관한 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2002 .05
Low-Temperature Chemical-Vapor Deposition - A NOVEL THIN-FILM TRANSISTOR PROCESS -
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1993 .01
SILICON CARBIDE THIN FILMS SYNTHESIZED BY PULSED YAG LASER DEPOSITION
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Si(CH₃)₄로부터 SiC의 레이저 화학증착에 관한 연구
대한기계학회 논문집 B권
2002 .09
Deposition of Silicon Films at Low Temperature with Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ( RPECVD )
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
[세션초청논문] Optimization of growth rate for Si in a planetary CVD reactor
대한기계학회 춘추학술대회
2019 .11
Chemical resistance characteristics of fluoride-treated silicon carbide
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2015 .04
Growth of 3C-SiC ( 111 ) Thin Films by Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
TaCl<sub>5</sub>-C<sub>3</sub>-H<sub>6</sub>-H<sub>2</sub> 계에서 TaC CVD 공정의 열역학 해석
한국재료학회지
2018 .01
New vapor-phase deposited polymer films by initiated chemical vapor deposition and their bio-device applications
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2011 .10
Deposition of epitaxial SiC film using thermal MOCVD method
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
A NEW CLASS OF SINGLE SOURCES FOR THE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF HETERO-METALLIC OXIDES
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
실리콘 카바이드 박막 제조를 위한 상압 화학증착 공정의 수치모사화 연구 ( Modelling and Simulation Study on Chemical Vapor Deposition Process for Silicon Carbide Film )
대한전자공학회 학술대회
1988 .01
Si 모재 위의 Si_(x)Ge_(1-x) 박막에서 부정합 전위와 임계두께에 관한 연구 ( Study on Misfit Dislocations and Critical Thickness in a Si_(x)Ge_(1-x) Epitaxial Film on a Si Substrate )
대한기계학회 춘추학술대회
2001 .06
탄화규소 화학기상증착 공정에서 CFD를 이용한 균일도 향상 연구
한국전산유체공학회 학술대회논문집
2014 .05
액체수송 유기금속 화학증착법 (LDS-MOCVD)에 의한 $Pb(Zr_xTi_{1-x})O_3$ 박막의 저온 ($450^{\circ}C$-$500^{\circ}C$) 증착 및 특성분석
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
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