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Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
$NF_3$ 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 SiC 단결정 식각에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
Second-order nonlinear optical properties of sol-gel films containing a silylated chalocone
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .10
산소 플라즈마를 이용한 Photo Resist 제거 ( Photo Resist Stripping by Oxygen Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
Lead-Frame 에칭공정에서 몬테카를로 시뮬레이션을 이용한 에칭특성 예측
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2006 .01
펄스 플라즈마를 이용한 식각
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
Solid-state CP/MAS NMR분석에 의한 silylated polysulfone에서의 chain-mobility와 기체투과 현상과의 관계
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
Aminopropyl Triethoxysilane과 아크릴 단량체를 이용한 Silylated Acrylic Polyurethane Dispersion의 제조
화학공학
2012 .01
미세 가공 시스템에서 분무특성이 에칭특성에 미치는 영향에 관한 연구
대한기계학회 논문집 B권
2004 .01
자성 박막의 습식 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Photocrosslink behavior of sol-gel matrix bearing silylated chalcone and second-order nonlinear optical chromophore
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .04
O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
통계적 기법을 이용한 에칭공정의 시뮬레이션
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .11
The Precision of Lead Frame Etching Characteristics Using Monte-Carlo Simulations
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
2007 .01
Spi Wet etching 공정을 이용한 마이크로 Dot 패턴 Etching 공정 최적화 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2006 .10
NFS 알고리즘에서의 두 개의 3차 다항식 선택
한국통신학회 학술대회논문집
2011 .02
Etch의 기술 개발 및 Etch와 Lithography 기술 시장 동향
전자공학회지
2013 .12
에칭시스템에서 요동각 변화에 따른 에칭특성 시뮬레이션
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .04
Lead-Frame 에칭공정에서 분무특성을 이용한 에칭특성의 예측
대한기계학회 논문집 B권
2006 .04
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