역전법을 응용한 실리사이드화된 매우 얇은 접합의 형성 ( Formation of Silicided Ultra-Shallow Junction employing Layer Reversal Method )

김종렬 ,  홍성윤 ,  윤명로 외 2명

전자공학회논문지-A

1996 .08

급속열처리에 의한 Ti-실리사이드와 접합의 동시형성에 관한 연구 ( A Study on the Simultaneous Formation of a Ti-Silicide and a Junction by the RTA Process )

민경익 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1991 .03

고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )

최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명

전자공학회논문지-A

1994 .08

Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p+ - n 극저접합의 형성 ( Formation of p+ - n Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

장지근 ,  엄우용 ,  신철상 외 1명

전자공학회논문지-D

1998 .05

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+ -N 극저접합의 형성 ( Formation of P-N Ultra Shallow Junction with The Co / Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

자연산화막 존재에 따른 코발트 니켈 복합실리사이드 공정의 안정성

송오성 ,  김상엽 ,  김종률

한국산학기술학회 논문지

2007 .02

나노급 다결정 실리콘 기판 위에 형성된 니켈실리사이드의 물성과 미세구조

김종률 ,  최용윤 ,  송오성

한국산학기술학회 논문지

2008 .02

Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )

김학균 ,  주승기

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

무선 에너지 전송을 위한 정류회로에 관한 연구

신두섭 ,  서철헌

전자공학회논문지-TC

2011 .02

다결정 실리콘 기판 위에 형성된 나노급 니켈 코발트 복합살리사이드의 미세구조 분석

송오성

한국산학기술학회 논문지

2007 .04

에피 코발트 실리사이드막으로 부터의 붕소 확산을 이용한 극저층 p+n 접합 형성 ( Ultra Shallow p+n Junction Formation Using the Boron Diffusion from Epi-Co Silicide )

변성자 ,  권상직 ,  김기범 외 1명

전자공학회논문지-A

1996 .07

정류공의 특성에 따른 정류벽의 정류효과

최계운 ,  김경환 ,  김현수

한국수자원학회 학술발표회

2001 .01

니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구

김상엽 ,  송오성

한국재료학회지

2007 .01

Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P＋－N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적 특성 ( Fabrication and Electrical Characteristics P＋－N Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )

신철상 ,  엄우용 ,  장호정 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .07

Si 기판 위에 형성된 Mo-silicides에 관한 연구 ( A study of Mo-silicides formed on Si-substrate )

조한수 ,  조현춘 ,  최진석 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1990 .07

동시 접합 공정에 의한 자기정렬 코발트 실리사이드 및 얇은 접합 형성에 관한 연구 ( A Study on the Self-Aligned Cobalt Silicidation and Formation of a Shallow Junction by Concurrent Junction Process )

이석운 ,  민경익 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .02

통신용 정류시설의 기술적 동향에 관한 연구 ( A Study on Technical Trends Rectifier Plant )

김만고

Journal of Advanced Marine Engineering and Technology (JAMET)

1997 .08

Si 기판 위에 Mo-Silicides의 형성과 그 특성에 관한 연구 ( A Study on the Properties and Formation of Mo-Silicides on Si-Substrate )

조한수 ,  조현춘 ,  최진석 외 1명

전자공학회논문지-A

1991 .01

니켈실리사이드를 이용한 실리콘 기판쌍의 직접접합

안영숙 ,  송오성

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01