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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 제15권 1호
발행연도
1992.7
수록면
345 - 348 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (5)

1992

Downstream 유도형 반응기의 제작 및 CF4 / O2 플라즈마를 이용한 a-Si : H의 식각 ( Fabrication of Downstream Inductively Coupled Reactor and Etching of a-Si : H Using CF4 / O2 Plasma )
박상준 ,  강석진 ,  최시영 대한전자공학회 학술대회 1992.07 학술대회자료
a-Si : H / a-SiN : H 초격자 구조를 이용한 박막트랜지스터의 제조 ( Fabrication of Thin Film Transistors with a-Si : H / a-SiN : H Superlattices )
박상준 ,  최시영 대한전자공학회 학술대회 1992.07 학술대회자료
Downstream 誘導形 반응기의 제작 및 CF4/O2 플라즈마를 이용한 a-Si:H의 식각
박상준 ,  강석진 ,  최시영 대한전자공학회 학술대회 1992.06 학술대회자료
a-Si:H/a-SiN:H 超格子 構造를 이용한 박막트랜지스터의 製造
박상준 ,  최시영 대한전자공학회 학술대회 1992.06 학술대회자료
a-Si:H/a-SiN:H 초격자구조의 제작 및 특성 ( Fabrication of a-Si:H/a-SiN:H Superlattices and Its Properties )
박상준 ,  최시영 전자공학회논문지-A 1992.06 학술저널

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