반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구

이수민 ,  권광호 ,  이종석 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1991 .06

Characteristics of contaminated silicon surface due to CHF3/C2F6 reactive ion etching and Post etch treatments for removal of surface residue

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

CHF₃/ C₂F₆ 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향

권광호 ,  이수민 ,  이종석 외 7명

대한전자공학회 학술대회

1991 .06

Al 합금의 반응성 이온 식각후 표면 특성 연구

김창일 ,  권광호

대한전기학회 학술대회 논문집

1995 .11

$CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 변형에 관한 연구

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 4명

한국재료학회지

1991 .01

CHF3 / C2F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향 ( The Effects of Photoresist Layer on the Characteristics of Si-Surface Residue Induced by CHF3 / C2F6 Reactive Ion Eching )

권광호 ,  이수민 ,  이종석 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1991 .07

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

$CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의해 변형된 실리콘 표면의 열적 거동에 관한 연구

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 5명

한국재료학회지

1992 .01

Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

강판 표면 고속 식각용 선형 이온 소스 개발

김도근 ,  이승훈 ,  김종국

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2010 .11

RIE(Reactive Ion Etching) 처리된 다결정 웨이퍼의 DRE(Damage Removal Etching) 처리에 따른 패시베이션 특성 분석

김무중 ,  박성은 ,  강민구 외 3명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2019 .04

건식 식각기술의 동향분석

박성호 ,  김진섭 ,  강봉구

[ETRI] 전자통신동향분석

1989 .06

Cylindrical Magnetron을 사용한 실리콘의 반응성 이온 건식식각의 특성에 관한 연구

염근영

한국재료학회지

1993 .01

반응성 이온 식각(RIE) 공정 시에 발생하는 플라즈마 데미지 및 부산물 제거에 따른 다결정 실리콘 태양전지 효율 향상 연구

김무중 ,  민관홍 ,  박성은 외 5명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2019 .10