지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
초록· 키워드
오류제보하기
Helmholz구성을 가진 두개의 전자석에 의해 작동되는 RF cylindrical magnetron을 사용하여 이의 플리즈마 성질을 가한 자장의 함수로 조사하고, 또한 $CHF_3$와 $CF_4/H_2$를 3mTorr의 낮은 압력하에서 사용하여 실리콘의 반응성 이온 건식식각 특성을 조사하였다. 또한 여러 자장의 크기 및 개스 분위기하에서 식각한 실리콘으로 제조한 Schottky다이오드의 전류-전압 특성으로 식각으로 인한 실리콘의 손상정도를 측정하였다. Cylindrical magnetron에 가한 자장을 증가시킴에 따라 플라즈마내이온밀도 및 분해될 개스밀도(radical density)가 직선적으로 증가하였으며 시편이 위치한 전극에 유도되는 직류 자기 바이아스 전압(dc self-bais voltage)은, 반면, 지수적인 감소를 하였다. 100Gauss부근의 자장을 가한 경우에 최대의 식각속도를 갖고 이때의 실리콘의 식각속도가 자장을 가하지 않은 경우에 비해서 5배정도로 증가하였으며, 전지적인 특성 역시 습식방법을 사용하여 식각한 실리콘에 가까운 정도의 이온 손상이 없느 식각상태를 얻을 수 있었다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
-
Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon 의 Deep Groove Etching ( Deep Groove Etching of Silicon by Reactive Ion Etching )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
-
Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon의 Deep Groove Etching
대한전자공학회 학술대회
1985 .06
-
Characterization of Surface Damage and Contamination of Si Using Cylindrial Magnetron Reactive Ion Etching
한국재료학회지
1993 .01
-
Plasma and Reactive Ion Etching
대한전자공학회 단기강좌
1983 .01
-
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
-
Lead-Frame 에칭공정에서 몬테카를로 시뮬레이션을 이용한 에칭특성 예측
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2006 .01
-
자성 박막의 습식 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
-
미세 가공 시스템에서 분무특성이 에칭특성에 미치는 영향에 관한 연구
대한기계학회 논문집 B권
2004 .01
-
RIE(Reactive Ion Etching) 처리된 다결정 웨이퍼의 DRE(Damage Removal Etching) 처리에 따른 패시베이션 특성 분석
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2019 .04
-
Study of Self-Limiting Etching Behavior in Wet Isotropic Etching of Silicon
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
-
The Precision of Lead Frame Etching Characteristics Using Monte-Carlo Simulations
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
2007 .01
-
MEMS 적용을 위한 Thermal CVD 방법에 의해 증착한 SiC막의 반응성 이온 Etching 특성 평가
전기전자재료학회논문지
2004 .01
-
통계적 기법을 이용한 에칭공정의 시뮬레이션
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .11
-
CH₄ 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구
한국표면공학회지
2008 .10
-
에칭시스템에서 요동각 변화에 따른 에칭특성 시뮬레이션
대한기계학회 춘추학술대회
2004 .04
-
Lead-Frame 에칭공정에서 분무특성을 이용한 에칭특성의 예측
대한기계학회 논문집 B권
2006 .04
-
The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
-
모바일 디스플레이용 유리 기판의 미 식각부 두께 최소화를 위한 습식식각 공정조건 최적화
한국기계기술학회지
2015 .01
-
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0