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송세영 (충남대학교) 박제준 (충남대학교) 강민구 (한국에너지기술연구원) 송희은 (한국에너지기술연구원) 장효식 (충남대학교)
저널정보
한국태양에너지학회 한국태양에너지학회 학술대회논문집 한국태양에너지학회 2012년도 추계학술발표대회 논문집
발행연도
2012.11
수록면
63 - 67 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (5)

2014

결정질 실리콘 태양전지에서 RF-PECVD를 이용한 실리콘 질화막의 패시베이션 향상 연구
송세영 ,  신경철 ,  강민구 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 2014.02 학술대회자료
고효율의 결정질 실리콘 태양전지를 위한 PA-ALD 방식의 Al2O3 연구
송세영 에너지과학기술학과 2014.01 학위논문

2013

결정질 실리콘 태양전지 적용을 위해 PA-ALD를 이용한 Al₂O₃ 최적화 연구
송세영 ,  강민구 ,  송희은 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2013.08 학술대회자료
결정질 실리콘 태양전지를 위한 PA-ALD Al2O3 막의 패시베이션 효과 향상 연구
송세영 ,  강민구 ,  송희은 외 1명 전기전자재료학회논문지 2013.01 학술저널

2012

결정질 실리콘 태양전지 응용을 위한 PA-ALD를 이용한 Al2O3 특성 분석
송세영 ,  박제준 ,  강민구 외 2명 한국태양에너지학회 학술대회논문집 2012.11 학술대회자료

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Aluminum oxide(Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>) flim by atomic layer deposition (ALD) is known to supply excellent surface passivation properties on crystalline Si surfaces. The passivation layer with good quality is important for high-efficiency silicon solar cell. Since Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> has fixed negative charge, it forms effective surface passivation by field effect passivation on the rear side in p-type silicon solar cell. However, Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> by ALD process needs very long process time, which is not applicable in the conventional silicon solar cell. In this paper, plasma-assisted ALD was applied to form Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> to reduce the process time. Plasma-assisted atomic layer deposition (PA-ALD) technique was used to trimethylaluminum (TMA) precursors and O<SUB>2</SUB> gas plasma species leading to self limiting surface reaction. this is adopted as a promising method for growing Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> thin films. To optimize the Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB> layer properties, the deposition temperature was changed in range of 150-250℃, then the annealing temperature and time were varied. As a result, aluminum oxide (Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>) flim on the silicon wafer formed in the deposition temperature, the annealing temperature and time with 250℃, 400℃ and 10 min, respectively, showed the best lifetime of 1610μs.
#Al< #SUB> #2< #/SUB> #O< #SUB> #3< #/SUB> #(Aluminum oxide) #PA-ALD(Plasma Assisted Atomic Layer Deposition) #Passivation #Crystalline Silicon Solar Cell

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

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