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LCD 제조공정에서 배출되는 폐에칭액으로부터 조(粗)인산 회수 후 잔류하는 질산, 초산 혼산폐액을 분리하여 자원화함으로써 고부가가치화하고 2차 폐수의 발생이 없는 친환경적인 청정 재활용기술을 개발하고자 진공증발을 이용하여 혼산폐액을 분리하였다. 진공도 -760 ㎜Hg 조건에서 온도의 따른 진공증발 결과 33℃ 이하에서는 초산만 증발되었으나 33℃ 이상에서는 초산과 함께 질산이 미량 증발되었다. 초산 회수율을 높이고 질산 증발을 억제하기 위하여 -760 ㎜Hg, 40℃ 조건으로 증발시간에 따른 증발거동을 조사하고 회수되는 증발량을 고려하여 추가로 물과 원액을 공급하였다. 또한 질산만 선택적으로 반응하도록 20 g/L NaOH를 소량씩 단계적으로 공급하였다. 질산 증발은 batch type 에서는 7%이었으나, 물 추가 시 0.78%, 원액 추가 시 0.25%까지 감소하였다. 20 g/L NaOH를 소량씩 단계적으로 공급한 결과 초산 회수율은 100%까지 증가하였으며, 질산은 6.22%까지 증발하였다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 토의
4. 결론
참고문헌
참고문헌 (6)
참고문헌 신청
1. [인터넷자원] - / / http://www.recycle.re.kr/recycle_webzine/webzine_no_15/story_
2. [기타자료] - Kwon, K. S / 2006 / Method and Apparatus for Separatin Acetic acid and Nitric Salts / Korean Patent No. 100550829 B1
3. [기타자료] - Chol, S. J / 2003 / Method for Preparing Sodium Nitrate Using Waste Nitric Acid / Korean Patent No. 1020030086031 A
4. [학술지(정기간행물)] - Park, S. K / 2006 / Recovery of High-Purity Phosphoric Acid from the Waste Acids in Semiconductor Manufacturing Process / J. Korean Inst. of Resour. Recy 15 (5) : 26 ~ 32
5. [학술지(정기간행물)] - Lee, H. S / 2005 / A Study on the Recovery of Phosphoric Acid from Waste Acid Containing Acetic Acid, Nitric Acid and Phosphoric Acid / J. Korean Inst. of Resour. Recy 14 (5) : 18 ~ 23
2. [기타자료] - Kwon, K. S / 2006 / Method and Apparatus for Separatin Acetic acid and Nitric Salts / Korean Patent No. 100550829 B1
3. [기타자료] - Chol, S. J / 2003 / Method for Preparing Sodium Nitrate Using Waste Nitric Acid / Korean Patent No. 1020030086031 A
4. [학술지(정기간행물)] - Park, S. K / 2006 / Recovery of High-Purity Phosphoric Acid from the Waste Acids in Semiconductor Manufacturing Process / J. Korean Inst. of Resour. Recy 15 (5) : 26 ~ 32
5. [학술지(정기간행물)] - Lee, H. S / 2005 / A Study on the Recovery of Phosphoric Acid from Waste Acid Containing Acetic Acid, Nitric Acid and Phosphoric Acid / J. Korean Inst. of Resour. Recy 14 (5) : 18 ~ 23
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