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본 연구에서는 전자산업에서 주로 사용되는 invar 강판재료를 식각한 후 생성되는 FeCl₂을 FeCl₃로 환원하여 회수한 후 재사용하기 위한 식각액 재생공정에서 FeCl₃의 회수 농도와 재생공정의 단수와의 관계를 규명하고 원하는 FeCl₃ 회수 농도를 얻기 위한 공정의 최적단수를 얻어낼 수 있는 simulation program을 개발하였다. 이 프로그램을 위한 여러 가지 parameter는 pilot 실험을 통해 얻었다. 개발된 프로그램에 의한 공정 모사는 폐액의 발생량 및 처리비용을 극소화할 수 있다. 또한 개발된 프로그램은 원하는 FeCl₃의 농도를 얻기 위한 식각액 재생시스템의 최적단수와 공정시간을 계산할 수 있다. 개발된 프로그램은 실제 전자산업에서 식각액 재생 장치의 최적 용량 산정과 식각액 회수 시스템 최적단수 계산에 활용되었다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 이론 및 공정설계
3. 분배계수 산정
4. Simulation program 결과
5. 결론
참고문헌
참고문헌 (7)
참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - Ueda, R. / 1989 / Chemical Machining by Ferric Chloride Etchant / Corrosion Eng. 38 (4) : 231 ~ 237
2. [학술지(정기간행물)] - Allen, D. M / 1981 / Surface Textures of Annealed AISI 304 Stainless Steel Etched by Aqueous Ferric Chloride-hydrochloric Acid Solutions / T. I. Met. Finish. 59 (1) : 25 ~ 29
3. [학술지(정기간행물)] - Moscony, J. J. / 1996 / Optimization of the Ferric Chloride Etching of Shadow Masks / Journal of the Society for Information Display 4 (4) : 231 ~ 240
4. [학술지(정기간행물)] - 구기갑 / 2007 / 포토레지스트 스트리퍼 폐액으로부터 고순도 유기용제 회수 / 청정기술 13 (4) : 257 ~ 265
5. [단행본] - Richard, J. / 1992 / Sax's Dangerous Properties of Industrial Materials, in: 7th ed. / Van Nostrand Reinhold
2. [학술지(정기간행물)] - Allen, D. M / 1981 / Surface Textures of Annealed AISI 304 Stainless Steel Etched by Aqueous Ferric Chloride-hydrochloric Acid Solutions / T. I. Met. Finish. 59 (1) : 25 ~ 29
3. [학술지(정기간행물)] - Moscony, J. J. / 1996 / Optimization of the Ferric Chloride Etching of Shadow Masks / Journal of the Society for Information Display 4 (4) : 231 ~ 240
4. [학술지(정기간행물)] - 구기갑 / 2007 / 포토레지스트 스트리퍼 폐액으로부터 고순도 유기용제 회수 / 청정기술 13 (4) : 257 ~ 265
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