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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
김선억 (고려대학교) 고효헌 (고려대학교) 김지현 (고려대학교) 김성식 (고려대학교)
저널정보
대한산업공학회 산업공학 (IE interfaces) 산업공학 (IE interfaces) 제21권 제2호
발행연도
2008.6
수록면
141 - 150 (10page)

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In this paper, an efficient control method for semiconductor fabrication process is presented. Generally, control is performed with data which is under the influence of process disturbance. EWMA is one of the most popular control methods in semiconductor fabrication that effectively deals with varying process condition. A new method using EWMA, called the Dual Damping EWMA, is presented in this study to reduce over-control by separating weight factor of input and output. The goal is to reflect Drift but reduce the effects of White noise in run to run control. Simulation is performed to evaluate the performance of DPEWMA and to compare with EWMA and Double EWMA.

목차

1. 서론
2. 본론
3. 실험계획 및 결과분석
4. 결론 및 추후연구
참고문헌

참고문헌 (19)

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