Inductively Coupled Plasma 장치를 활용한 Ar, Ar/O₂ 방전에서 metastable 아르곤 특성 파악

김환호 ,  천청빈 ,  이해준

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Study on Argon Metastable Density in ICP by Using Laser Induced Fluoresce

서병훈 ,  유신재 ,  김정형 외 2명

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2014 .02

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

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2016 .08

Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation

주정훈

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1998 .07

Characterization of inductively coupled Ar/CH4 plasma using tuned single langmuir probe and fluid simulation

차주홍 ,  한문기 ,  김동현 외 2명

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2015 .08

Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas

홍영훈 ,  김주호 ,  이무현 외 2명

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2020 .08

Analysis of chemical reactions of CF₄ and C₄F₈ for inductively coupled plasma based on plasma parameters

J. J. Lee ,  S. J. Kim ,  Y. S. Lee 외 2명

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2019 .08

The Influence of Radiation Trapping on the Metastable Population Density and Applications to Low-pressure Plasma

이영광 ,  오세진 ,  정진욱

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2011 .02

Plasma parameters variation in O₂ / He, Ar, Xe inductively coupled plasma as a function of mixing ratio

배근희 ,  유신재 ,  엄환섭 외 1명

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2001 .07

Two - dimensional simulation of inductively coupled large - area plasma source

S. E. Pa ,  k ,  J. K. Lee 외 2명

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2002 .02

Etching characteristics of ZnO thin films using inductively coupled BCl₃ / Ar and Cl₂ / Ar plasma

S-W. Na ,  M-H. Shin ,  Y-M. Chung 외 4명

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2004 .08

Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of MgO Thin Films Using a CH₄/Ar Plasma

Hwa Won Lee ,  Eun Ho Kim ,  Tae Young Lee 외 1명

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2011 .02

Effect of multi-step ionizations on the tail electron temperature in an argon inductively coupled plasma

Geun-Hong Pa ,  k ,  Kyung-Hyun-Kim 외 1명

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2018 .08

Modeling of Inductively Coupled High Density Plasma Processes for the Fabrication of Semiconductor Devices

Jai Kwang Shin ,  Jae Joon Oh ,  Seong Gu Kim 외 6명

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1999 .02

Inductively Coupled Plasma 방전의 Global Modelling 과 Simulation

유광일 ,  윤남석 ,  황순모

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1997 .07

Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2 / Ar inductively coupled plasma

M. H. Shin ,  S. W. Na ,  N.-E. Lee 외 1명

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2004 .08

Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas

김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명

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2020 .02

Interpretation of current decrease during E - H mode transition in a cylindrical inductively coupled plasma

Jun-Hyeon Moon ,  Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08

Behaviors of excited states argon atom density in ICP discharge

박민 ,  유신재 ,  김정형 외 3명

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2011 .02

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

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2020 .08