Thermal Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier(Si3N4/Ta2O5) for Non Volatile Memory Applications

이동현 ,  조원주

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Electrical characterization of TiSi² nanocrystals grown on multi-stacked tunnel layer for non-volatile memory

Seung Jong Han ,  Dong Uk Lee ,  Ki Bong Seo 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Heat treatment effect of high-k HfO2 for tunnel barrier memory application

황영현 ,  유희욱 ,  김민수 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Heat Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier (Si3N4 / HfAlO) for Non-volatile Memory Application

조원주 ,  이세원

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Improved memory characteristics using high-k materials for charge trap layer and engineered tunnel barrier

김민수 ,  김관수 ,  유희욱 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Effect of heat treatment on HfO₂ charge trapping layer for engineered tunnel barrier non-volatile memory

박군호 ,  김관수 ,  정명호 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Staggered Tunnel Barrier engineered Memory

손정우 ,  박군호 ,  조원주

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Electrical characteristics of high-к stack layered tunnel barriers with Post-Rapid thermal Annealing (PRA) for nonvolatile memory application

황영현 ,  유희욱 ,  손정우 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Effect of barrier materials on the properties of magnetic tunnel junctions

박병국 ,  임우창 ,  배지영 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2002 .12

Effect of triple stacked bandgap-engineered tunneling barrier with silicon-richsilicon- nitride layer as charge storage node in non-volatile memory applications

Taekyung Yim ,  Eunkyeom Kim ,  Seungman An 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Annealing effect of Engineered Tunnel Barrier with Asymmetrical SiO2/ZrO2 stacks

유희욱 ,  김관수 ,  정명호 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

Effects of Tunnel Barrier Roughness on Magnetoresistance of Magnetic Tunnel Junctions

황재연 ,  김순섭 ,  김미양 외 7명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2005 .06

Current Problems of High Energy Application in Memory Device Fabrication

민경열 ,  김춘곤 ,  김종협 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .07

차세대 비휘발성 메모리 적용을 위한 Staggered Tunnel Barrier (Si3N4/ZrO2, Si3N4/HfAlO)에 대한전기적 특성 평가

이동현 ,  정홍배 ,  이영희 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .08

Electrical Properties of Al2O3/SiO2 and HfAlO/SiO2 Double Layer with Various Heat Treatment Temperatures for Tunnel Barrier Engineered Memory Applications

손정우 ,  정홍배 ,  이영희 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

Electrical characteristics of SiC thin film charge trap memory with barrier engineered tunnel layer

Dong Seok Han ,  Dong Uk Lee ,  Hyo Jun Lee 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

New materials and applications for magnetic tunnel junctions

G. Reiss ,  H. B ,  ückl 외 4명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2003 .12

Non volatile memory device using mobile proton in gate insulator by hydrogen neutral beam treatment

윤장원 ,  장진녕 ,  홍문표

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

A Theoretical Study of an Amorphous Aluminium Oxide Layer Used as a Tunnel Barrier in a Magnetic Tunnel Junction

Eun Sun Noh ,  Se ,  gio E. Ulloa 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2007 .05

Non-volatile Control of 2DEG Conductance at Oxide Interfaces

Shin-Ik Kim ,  Jin-Sang Kim ,  Seung-Hyub Baek

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02