Initial silicidation on nickel surfaces

Tsuneo FUKUDA ,  Kenji UMEZAWA ,  Ippei KISHIDA

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Epitaxial $SnO_2$ Thin Films on Sapphire($1\bar{1}02$) and ($11\bar{2}0$) Deposited by Atomic Layer Deposition

Kim ,  Dai-Hong ,  Hong 외 1명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

Effect of Surface Roughness on the Formation of Low Resistance Ni-Silicide from Atomic Layer Deposited Nickel Film

방진배 ,  강희성 ,  하종봉 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Rapid growth of Nickel sulfide by atomic layer infiltration

Hyeon Seok Ji ,  Myung Mo Sung

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Electrical Properties of Copper Oxide Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition

Byung Kook Lee ,  Jae Ki Min ,  Sun Sook Lee 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Atomic Layer Deposited Metal Thin Films on T-shirts

Han-Bo-Ram Lee

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Self-Limiting Atomic Layer Deposition of Nickel Oxide and Nickel Sulfide Thin Films : Simultaneous Understanding of ALD Processing & Mechanism

Jaehwan Kim ,  Hyunbae Lee ,  Myeong-Hee Ko 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Silicidation 및 후속 열공정에 따른 Binding Energy Shift 관찰

임철호 ,  이문근 ,  이태권 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

Atomic Layer Deposited Nickel Sulfide Thin Film as an Alternative Counter Electrode in Dye-Sensitized Solar Cell

한규석 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

Characterization of atomic layer Deposited Nickel Oxide (NiO) by using HPN precursor

Taewook NAM ,  Donghyun KIM ,  Seungmin YEO 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Identification of crystalline phases in Si(001)/X(500$\AA$)/Zn(1000$\AA$) double layers deposited by thermal evaporation process

Shin ,  Dong-Won ,  Lee 외 7명

한국결정학회 학술연구발표회

2001 .01

Controlled growth of atomic layer deposited Molybdenum based thin film using a novel nitrogen and sulfur containing precursor

Yujin JANG ,  Mi ,  ang BYEON 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Electric Characteristics of HfO₂ deposited by Atomic Layer Deposition

김수현 ,  박재경 ,  노용한

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Controlling Surface and Film Structures on the Atomic Scale

M. Aono

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .02

Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition

김경문 ,  윤순길 ,  정낙관

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Deposition and characterization of Ti - Al - N thin films deposited by plasma - assisted atomic layer deposition

Yong Ju Lee ,  Sang-Won Kang

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .06

60 ㎚ 와 20 ㎚ 두께의 수소화된 비정질 실리콘에 따른 저온 니켈실리사이드의 물성 변화

김종률 ,  박종성 ,  최용윤 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2008 .11

On the atomic structure of deposited Ni on Ag(001) surface

이규섭 ,  김상현 ,  민항기 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

The enhanced nucleation behavior of atomic-layer-deposited Ru film on porous low-k dielectrics by $UV-O_3$ treatment

Heo ,  Jae-Yeong ,  Lee 외 10명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

Atomic-layer superconductors

Shuji HASEGAWA

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08