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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2009.11
- 수록면
- 2,236 - 2,241 (6page)
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In this study, the electron behavior was investigated numerically in order to obtain guidelines for design and operation of a new plasma source by a magnetic neutral loop discharge (NLD). The optimum plasma production was investigated by using a 3-dimensional simulation model which enables the electron behavior calculation from source region to downstream region. The results showed that the high-density plasma produced around the magnetic neutral loop (NL) is transferred from the NL region to the downstream region along magnetic force lines. Also the avaraged electron energy is increased with the normalized RF electric field (F), which can be used to characterize the plasma production efficiency of NLD system. Considering the relation between F and plasma production, in-depth plasma control can be achieved at a given specific process condition.
목차
Abstract
1. 서론
2. NLD 플라즈마의 생성과 시스템 개요
3. 전자거동의 시뮬레이션 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
저자소개
참고문헌 (16)
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1. [학술지(정기간행물)] - Z. Yoshida / 1998 / Anomalous Resistence Induced by Chaos of Electron Motion and its Application to Plasma Production / Physical Review Letters 81 (12) : 2458 ~ 2461
2. [학술지(정기간행물)] - Wei Chen / 1998 / Dry Etch Process in Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma / Jpn. J. Appl. Phys. 37 : 332 ~ 336
3. [학술지(정기간행물)] - W. Chen / 2001 / Application of magnetic neutral loop discharge plasma in deep silica etching / J. Vac. Sci. Technol. A 19 : 2936 ~ 2940
4. [학술지(정기간행물)] - A. V. Arsenin / 2007 / Heating of electrons in a high-frequency inductive neutral-loop discharge / Journal of Communications Technology and Electronics 52 : 906 ~ 909
5. [학술지(정기간행물)] - Hideo Tsuboi / 2007 / Observation of Characteristics of Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Appearing at Antenna in RF Circuit / Jpn. J. Appl. Phys. 46 : 7475 ~ 7477
2. [학술지(정기간행물)] - Wei Chen / 1998 / Dry Etch Process in Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma / Jpn. J. Appl. Phys. 37 : 332 ~ 336
3. [학술지(정기간행물)] - W. Chen / 2001 / Application of magnetic neutral loop discharge plasma in deep silica etching / J. Vac. Sci. Technol. A 19 : 2936 ~ 2940
4. [학술지(정기간행물)] - A. V. Arsenin / 2007 / Heating of electrons in a high-frequency inductive neutral-loop discharge / Journal of Communications Technology and Electronics 52 : 906 ~ 909
5. [학술지(정기간행물)] - Hideo Tsuboi / 2007 / Observation of Characteristics of Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Appearing at Antenna in RF Circuit / Jpn. J. Appl. Phys. 46 : 7475 ~ 7477
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