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저널정보
대한전기학회 정보 및 제어 논문집 2006 정보 및 제어 심포지엄 논문집
발행연도
2006.4
수록면
138 - 140 (3page)

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A new diagnosis model was constructed by combining atomic force microscopy (AFM), wavelet, and neural network, Plasma faults were characterized by filtering AFM-rneasured etch surface roughness with wavelet. The presented technique was evaluated with the data collected during the etching of silicon oxynitride thin film. A total of 17 etch experiments were conducted. Applying wavelet to AFM, surface roughness was detailed in ... 전체 초록 보기
#Plasma #Diagnosis #Wavelet #Neural network #Atomic force microscopy

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 데이터
3. 역전파 신경망
4. 인식 모델
4. 결론
감사의 글
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