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이용수
Abstract
Ⅰ. INTRODUCTION
Ⅱ. EXPERIMENTAL
Ⅲ. RESULTANDDISCUSSION
REFERENCES
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한국공업규격-폴리염화알루미늄
수도
1975 .01
유도결합형 BCl3/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
Etching characteristics of BST thin films using BCl₃/Cl₂/Ar plasma
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .10
ICP를 이용한 Ar/Cl₂/BCl₃ 플라즈마에서 PZT 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .11
${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Cl₂/BCl₃/Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막 표면의 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )
전자공학회논문지-SD
2000 .07
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )
전자공학회논문지-D
1999 .05
BCl₃/Cl₂/Ar 고밀도 플라즈마에 의한 (Ba, Sr)TiO₃ 박막의 식각 메커니즘 연구
전자공학회논문지-SD
2000 .11
N₂ 가스를 첨가한 Cl₂/Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막의 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .10
유도결합형 $Cl_2/BCl_3/Ar$ 플라즈마를 이용한 sapphire wafer의 건식 식각
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
기판 온도에 따른 Cl₂/BCl₃/Ar 플라즈마에서 ZrO₂ 박막의 건식 식각
한국표면공학회지
2009 .12
Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각
전기전자재료학회논문지
2009 .01
BCl₃/Cl₂/Ar 고밀도 플라즈마에서 (Ba, Sr)TiO₃ 박막의 식각 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .11
SiC/ $Si_{3}N_{4}$ 복합재료의 $O_{2}/Cl_{2}$분위기에서의 고온 부식거동
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
Ar/CF4/Cl2 플라즈마에 의한 CeO2 박막의 식각 특성 연구
전기전자재료학회논문지
2002 .01
$BCl_3$ 와 $BCl_3/Ar$ 유도결합 플라즈마에 따른 GaAs 건식식각 비교
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
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