Latest Trend in Capacitively Coupled Discharges in Plasma Processing

Jong W. Shon

한국표면공학회 Workshop

2004 .11

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Fabrication of Various Ultra-Water-Repellent Surfaces via Plasma Process

Katsuya Teshima ,  Shoko Mo ,  i 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

저 유전 재료의 에칭 공정을 위한 H₂/N₂ 가스를 이용한 Capacitively Coupled Plasma 시뮬레이션

孫采化

전기학회논문지 C

2006 .12

Numerical investigation of rf pulsing effect on ion energy distributions in capacitively coupled plasma sources

Deuk-Chul Kwon ,  Sang-Young Jung ,  Jung-Sik Yoon

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Simulation Study of Capacitively Coupled Oxygen Plasma with Plasma Chemistry including Detailed Electron Impact Reactions

김헌창

공업화학

2011 .01

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

Microwave Plasma CVD로 제조한 다이아몬드 박막의Morphology에 관한 연구

박영수 ,  김성훈 ,  이조원

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

EVALUATION OF WATER REPELLENCY FOR SILICON OXIDE FILMS PREPARED BY RF PLASMA-ENTHANCED CVD

Hi ,  oki Sekoguchi ,  Atsuhi Hozumi 외 2명

한국표면공학회지

1996 .12

Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma CVD Process

Hi ,  oshi Fujiyama ,  Masano 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Control of plasma CVD films containing group IV nanoparticles

Masaha ,  u Shi ,  atani 외 8명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

DC Plasma CVD 법에 의한 다이아몬드의 성장에 관한 연구

이상현 ,  예길촌 ,  백운승 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1993 .11

PREPARATION OF SILICON OXIDE FILMS WITH HIGH WATER REPELLENCY BY RF PLASMA-ENHANCED CVD

Hinzumi ,  Atsushi ,  Sekoguchi 외 6명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

Dual-frequency CH₂F₂/H₂/Ar capacitively coupled plasma에서 실리콘 나이트라이드와 ArF PR의 무한대 에치 선택비

박창기 ,  이춘희 ,  김희대 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .04

Ultra Water‐Repellent Coatings

Osamu Takai

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2010 .11

Capacitively Coupled Hybrid Ion Gel and Carbon Nanotube Thin-Film Transistors for Low Voltage Flexible Logic Circuits

최용석 ,  강주훈 ,  Ethan B. Seco 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2019 .10

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )

황정태 ,  정창영 ,  정관수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1989 .11