SF₆/O₂ 플라즈마를 이용한 금속 표면 방사성 오염물질의 제염 연구

전상환 ,  이승훈 ,  고성남 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

저온 플라즈마를 이용한 방사성 오염 금속 표면 제염 연구

전상환 ,  이승훈 ,  고성남 외 1명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2005 .01

플라즈마 공정 기술을 이용한 금속 표면의 고착성 오염물질 제염 연구

윤상필 ,  전상환 ,  진동식 외 4명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2006 .01

금속 표면에 대한 광용발 제염 타당성 비교 연구

원휘준 ,  정철진 ,  문제권 외 1명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2007 .01

$CS^+$ 이온으로 오염된 금속 표면에 대한 광 용발 제염 특성

원휘준 ,  바이갈마 ,  문제권 외 2명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2008 .01

저준위 방사성 표면 오염 금속의 플라즈마 제염 연구

전상환 ,  김용수 ,  진동식 외 3명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2006 .01

원격 표면제염시스템

김기호 ,  박병석 ,  박장진

제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집

2007 .05

방사성 오염 금속 표면에 형성된 코발트 산화막의 플라즈마 제염 반응 연구

박동민 ,  전상환 ,  김용수 외 3명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2008 .01

방사성오염 금속폐기물의 특성 및 제염

안섬진 ,  강일식 ,  배상민 외 2명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2006 .01

MOS 구조의 특성

성영권 ,  여권 ,  이상훈

대한전기학회 학술대회 논문집

1986 .07

동작속도가 빠른 Mo2N/Mo 게이트 MOS 집적회로 ( High Speed Mo2N/Mo-Gate MOS Integrated Circuit )

김진섭 ,  이우일 ,  이대우 외 1명

전자공학회지

1985 .07

Surface modification of MoS₂ by O₂ plasma treatment

Yujin Jang ,  Jang Hee Yoon

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2020 .06

D MOS , V MOS tr. 등 특수구조를 갖는 MOS소자의 설계

성만영

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

플라즈마 식각 공정이 N2O 산화막과 순수한 산화막을 갖는 MOS 소자 특성에 미치는 영향에 관한 연구 ( A Study on the Effect of Plasma Etching Process on the Characteristics of MOS Devices with N2O and Pure Gate Oxides )

윤재석 ,  이상돈 ,  김봉렬

전자공학회논문지-A

1996 .09

방사성 금속 폐기물 제염방법 고찰

김대환 ,  김병태 ,  홍지식 외 1명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2008 .01

복합제염장치를 이용한 금속방사성폐기물 제염 고찰

홍용호 ,  이경호 ,  제환경 외 3명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2011 .01

Chemical Decontamination Design for NPP Decommissioning and Considerations on its Methodology

박근영 ,  김창락

방사성폐기물학회지

2015 .01

U-7Mo 및 U-7Mo-1Ti 분말 표면의 Nitride 코팅장치 개념 분석

이선용 ,  김우정 ,  류호진 외 3명

한국방사성폐기물학회 학술대회

2012 .01

MOS Processing

이종덕

대한전자공학회 단기강좌

1982 .01

Downstream 誘導形 반응기의 제작 및 CF₄/O₂ 플라즈마를 이용한 a-Si:H의 식각

박상준 ,  강석진 ,  최시영

대한전자공학회 학술대회

1992 .06