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이용수
Abstract
1. INTRODUCTION
2. EXPERIMENTAL
3. RESULTS AND DISCUSSION
4. CONCLUSIONS
ACKNOWLEDGEMENT
References
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Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
PECVD 실리콘질화막에 대한 이온빔 방사효과
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
60㎒ PECVD법에 의한 μc-Si:H 박막의 저온증착 및 태양전지 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
Multi-Step 스퍼터링 PECVD에 의한 실리콘 산화막의 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
Modeling the Properties of the PECVD Silicon Dioxide Films Using Polynomial Neural Networks
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
1998 .10
Modeling the Properties of PECVD Silicon Dioxide Films Using Polynomial Neural Networks
한국지능시스템학회 학술발표 논문집
1996 .11
PECVD 방법으로 증착된 알루미늄 산화박막의 조성 및 구조 분석
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )
전자공학회논문지
1990 .06
PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )
전자공학회논문지
1990 .07
Low Temperature Atomic Layer Deposition of Silicon Oxide Films Using Silicon Amide Precursors
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
ECR PECVD에 의한 상온 실리콘 질화막 형성 및 박막 트랜지스터에의 응용 ( Room Temperature Fabrication of Silicon Nitride Films by ECR PECVD and its Application to Thin Film Transistors )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
PECVD법으로 증착된 DLC film의 광학적 특성연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
고 에너지 이온빔에 의한 PECVD 질화규소막 내의 수소 이탈현상에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
PECVD산화막을 이용한 삼층금속배선공정에 관한 연구 ( The Study on the Triple-Level metallization process Using PECVD Oxide )
대한전자공학회 학술대회
1990 .07
PECVD를 이용한 MoS₂ 반도체 박막의 저온 합성 및 특성 파악
대한기계학회 춘추학술대회
2015 .04
PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착
한국표면공학회지
2002 .04
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