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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제40권 제2호
발행연도
2007.4
수록면
91 - 97 (7page)

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In this study, we investigated the oxygen effect on the nucleation and its residual stress during unbalanced magnetron sputtering. Up to 0.5% in oxygen flow rate, cubic phase (c-BN) was dominated with extremely small fraction of hexagonal phase (h-BN) of increasing trend with oxygen concentration, whereas hexagonal phase is dominated beyond 0.75% flow rate. Interestingly, the residual stress in cubic-phase-dominated films was substantially reduced with small amount of oxygen (~0.5%) down to a low value comparable to the h-BN case. This may be because oxygen atoms break B-N sp³ bonds and make B-O bonds more favorably, increasing sp² bonds preference, as revealed by FTIR and NEXAFS. It was confirmed by experimental facts that the threshold bias voltage for nucleation and growth of cubic phase were increased from ?55 V to ?70 V and from ?50 V to ?60 V, respectively. The reduction of residual stress in O-added c-BN films is seemingly resulting from the microstructure of the films. The oxygen tends to increase slightly the amount of h-BN phase in the grain boundary of c-BN and the soft h-BN phase of 3D network including surrounding nano grains of cubic phase may relax the residual stress of cubic phase.
#Cubic boron nitride #Oxygen addition #Residual stress #Nucleation

목차

Abstract
1. 서론 및 이론 배경
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (1)

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1. [학술지(정기간행물)] - / 1991 / Diamond and Diamond Like Films and Coatings google schola

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-581-014783021