미세입자 분사가공을 위한 쾌속 마스크 제작기술의 개발

이승표; 이인환; 고태조; 강현욱; 조동우

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이승표 이인환 고태조 강현욱 조동우

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.25 No.1

발행연도: 2008.1

수록면: 138 - 144 (7page)

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Micro-machining of a brittle material such as glass, silicon, etc., is important in micro fabrication. Particularly, micro-abrasive jet machining (μ-AJM) has become a useful technique for micro-machining of such materials. The μ-AJM process is mainly based on the erosion of a mask which protects brittle substrate against high velocity of micro-particle. Therefore, fabrication of an adequate mask is very important. Generally, for the fabrication of a mask in the μ-AJM process, a photomask based on the semi-conductor fabrication process was used. In this research a rapid mask fabrication technology has been developed for the μ-AJM. By scanning the focused UV laser beam, a micro-mask pattern was fabricated directly without photolithography process and photomask. Two kinds of mask patterns were fabricated using SU-8 and photopolymer (Watershed 11110). Using fabricated mask patterns, abrasive-jet machining of Si wafer were conducted successfully.

#Mask(마스크) #Micro-abrasive jet machining(미세입자 분사가공) #SU-8 #Photopolymer(광 경화성 수지) #Micro-stereolithography(마이크로 광 조형)

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