Chemical Bonding Structures of Low-k SiOCH films with HMDSO and O₂ precursors deposited by PECVD

Seung Hyun Kim ,  R. Navamathavan ,  Doo Chul Kim 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .02

Characteristics of plasma polymerization films using HMDSO precursor on 316L stainless

Ying LEE ,  Si-Bu WANG ,  Jyh-Wei LEE 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

HMDSO와 산소를 이용한 PECVD 증착 SiOxCy필름의 특성연구

김성룡 ,  이호영

Applied Science and Convergence Technology

2001 .07

Electrical properties of HfO_xN_y thin films deposited by PECVD

J.-H. Pa ,  k ,  J.-S. Hyun 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .02

Photoluminescence chracteristics of SiN_x thin film deposited by PECVD at low temperature

Kyungsu Lee ,  Eunkyeom Kim ,  Kyongmin Kim 외 9명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

The properties of low-k thin film deposited by PECVD using the mixed precursors of hexamethyldisiloxane and triethoxysilylallylethylether as the precursors

이성우 ,  도상민 ,  양재영 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .02

PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.

김선우 ,  김형준

한국진공학회 학술발표회초록집

1992 .07

A study for the hybrid low-k polymer thin films by PECVD and their electrical and mechanical properties

배인섭 ,  조상진 ,  부진효

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .08

Wettability control in C-SiOx film formed by plasma polymerization of HMDSO/O₂ mixture

Seong Jin Kim ,  Kwang-Ryeol Lee ,  Myoung-Woon Moon

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

HMDSO와 산소를 이용한 SiOx 필름의 특성연구

김성룡 ,  송준섭 ,  박성철 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .07

Structural and electronic properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by using PECVD from DMDMS/O₂ precursors

Chang Young Kim ,  An Soo Jung ,  R. Navamathavan 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .02

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Properties of low-k dielectrics of SiOCH thin film fabricated by changing BTMSM/O2 flow rates through the two dimensional correlation analysis

황창수 ,  김종욱 ,  김민석 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .02

p - Xylene precursor를 사용한 low k 유기박막의 PECVD 증착 및 전기적특성

권영춘 ,  주종량 ,  정동근

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .02

Si₃N₄상에 PECVD법으로 형성한 텅스텐 박막의 특성

이찬용 ,  배성찬 ,  이종현 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .07

Optimization and Application of Si-DLC Coating with Low Friction and High Hardness Property by Using PECVD Method

여기호 ,  문종철 ,  신의철 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .08

The RIE resistance and film properties of doped amorphous silicon hardmask deposited by PECVD with disilane as the precursor

Sungwoo LEE ,  Jaeyoung YANG ,  Seokhwan KIM 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD

Jae Eun Kim ,  Kyung Dong Lee ,  Yoonmook Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

PECVD 기법에 의해 제조된 nc-Si : H 박막의 나노 구조적 특성

심재현 ,  정수진 ,  조남희

한국결정학회지

2003 .01

PECVD Synthesis of WS₂ for Hydrogen Evolution Catalysis

Kanade Vinit ,  Hyeong-U Kim ,  Seokjun Hong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02