전사방식 마이크로광조형을 이용한 배열 형태 미세 구조물 가공

최재원; 하영명; 이석희

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자료유형: 학술저널

저자정보: 최재원 하영명 이석희

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.24 No.8

발행연도: 2007.8

수록면: 138 - 143 (6page)

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Microstereolithography technology is similar to the conventional stereo lithography process and enables to fabricate a complex 3D microstructure. This is divided into scanning and projection type according to aiming at precision and fabrication speed. The scanning MSL fabricates each layer using position control of laser spot on the resin surface, whereas the projection MSL fabricates one layer with one exposure using a mask. In the projection MSL, DMD used to generate dynamic pattern consists of 1024×768 micromirrors which have 13.68㎛ per side. The fabrication range and resolution are determined by the field of view of the DMD and the magnification of the projection lens. If using the projection lens with high power, very fine microstructures can be fabricated. In this paper, the projection MSL system adapted to a large surface for array-type fabrication is presented. This system covers the meso range, which is defined as the intermediate range between micro and macro, with a resolution of a few 11m. The fabrication of array-type microstructures has been demonstrated to verify the performance of implemented system.

#Array-type micro fabrication(배열 형태 미세 가공) #Digital Micromirror Device(디지털 마이크로미러 장치, DMD) #Microstereolithography(마이크로광조형, MSL)

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