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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2005.10
수록면
523 - 526 (4page)

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Microstereolithography(MSL) has evolved from the stereolithography technique, and is also based on a light-induced layer-stacking fabrication. Although integral MSL allows the manufacture of a complete layer by one irradiation only, there is a problem related with shape precision due to the light-intensity distribution of focused image. In this study, we developed the integral MSL apparatus using Digital Micromirror Device (DMDTM, Texas Instruments) as dynamic pattern generator. It is composed of Xenon-Mecury lamp, optical devices, pattern generator, precision stage, controllers and the control program. Also, we have studied curing depth and width of photocurable resin according to the change of exposure energy.
#마이크로 광조형(Microstereolithography) #동적 패턴 생성기(Dynamic Pattern Generator) #경화특성(Curing Characteristics) #노출 에너지(Exposure Energy)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 시스템 구성
3. 경화특성 실험 및 결과
4. 결론
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